Shanghai
Residenzprogramme

Yan Haibo ©AKuB Yan Haibo ©AKuB

Künstlerresidenzen in Shanghai

Unsere Residenzprogramm geht in die nächste Runde. Auch in diesem Jahr werden wir in Kooperation mit dem Designinstitut der Chinese Academy of Art einer Künstlerin/einem Künstler wieder die Möglichkeit bieten, eigene chinabezogene Projekte in einem dreimonatigen Aufenthalt von September bis Dezember 2018 zu vertiefen.

Das Programm versteht sich als Beitrag zur interkulturellen Verständigung zwischen China und Deutschland. Sie sollen zum gemeinsamen Gespräch und Nachdenken anregen. Das kreative Potential des Miteinanders steht im Vordergrund.

Der Bewerbungsschluss für das Residenzprogramm in Kooperation mit der Chinesischen Akademie der Künste ist der 05. August 2018. Nachfolgend finden Sie die Details der Ausschreibung.

Das Residenzprogramm in Kooperation mit dem AM Art Space findet aus terminlichen Gründen erst 2019 wieder statt.


Aus terminlichen Gründen findet das Residenzprogramm in Kooperation mit dem "AM Art Space" erst 2019 wieder statt.

Informationen über den „AM Art Space“ finden Sie hier:
am art space

Ausschreibung: Künstlerresidenz "Deutsche Designer in Shanghai"
Das Goethe-Institut China und die Abteilung Kultur und Bildung des Generalkonsulats der Bundesrepublik Deutschland in Shanghai führen auch im Jahr 2018 die Zusammenarbeit mit dem Designinstitut der Chinese Academy of Art fort und bieten ein Residenzprogramm für Künstlerinnen und Künstler aus dem Bereich Design an. Der dreimonatige Aufenthalt von Mitte September bis Mitte Dezember 2018 dient der Arbeit an eigenen, chinabezogenen Projekten. Darüber hinaus bietet der Aufenthalt in Shanghai die Möglichkeit, Kontakte mit chinesischen Kunst- und Kulturschaffenden zu knüpfen.  

Die Bewerbungsfrist endet am 05. August 2018.
Erfolgreiche Bewerbungen erhalten bis zum 15. August 2018 positive Rückmeldung.


Zielgruppe: Kulturschaffende aus den Bereichen Architektur- und Umwelt-Design, Industrie-Design, Mode-Design, Produkt-Design, Visuelle Kommunikation, Multimedia-Design oder Interaktives Medien- und Kommunikations-Design.

Zeitraum der Residenz: 15. September- 15. Dezember 2018 (max. 90 Tage)
Ort: Shanghai
Veranstalter: Goethe-Institut China, Abteilung Kultur und Bildung des Generalkonsulats der Bundesrepublik Deutschland in Shanghai, Designinstitut der Chinese Academy of Art

Leistungen des Programmes
• Finanzierung der An- und Abreisekosten (Flug, Transfer zum und vom Flughafen), Visagebühren für eine einmalige Einreise nach China
• Bereitstellung einer Unterkunft auf dem Campus des Designinstituts in Shanghai für 3 Monate, Verpflegung auf dem Campus sowie einen Zuschuss zu den Lebenshaltungskosten in Höhe von 500 Euro monatlich
• Vernetzung mit für das Projektvorhaben relevanten Kulturschaffenden und Institutionen über das Netzwerk des Goethe-Instituts und des Designinstituts der Chinese Academy of Art
 
Während der Residenzzeit soll der Stipendiat oder die Stipendiatin in dem eigenen Fachbereich 2 akademische Vorträge und einen 15-Arbeitstage-Workshop in Absprache mit dem Designinstitut gemeinsam mit dem chinesischen Partner organisieren. Eine Ausstellung, Präsentation oder Performance sowie eine Publikation zum Ende der Residenzzeit wird erwünscht. In Absprache sind begleitende Podiumsgespräche mit hiesigen Künstlerinnen und Künstler oder Vorträge in den Räumen der Abteilung Kultur und Bildung möglich.

Bewerberinnen und Bewerber üben in den genannten Berufsfeldern eine professionelle Tätigkeit aus und haben ihren Lebensmittelpunkt in Deutschland.

Bewerbungsunterlagen
Bewerbungen müssen in englischer Sprache verfasst sein und enthalten folgende Unterlagen:
• Lebenslauf
Mit vollständigen Kontaktdaten, Angaben zu Ihrer Ausbildung und einem Überblick über Ihre bisherige künstlerische Laufbahn.
• Motivationsschreiben und Projektvorhaben
Bitte schildern sie auf maximal 2 Seiten Ihre Motivation für die Teilnahme am Residenzprogramm. Bitte schildern Sie ebenfalls, welches Projektvorhaben Sie während Ihres Aufenthalts in Shanghai umsetzen möchten.
• Arbeitsproben

Wir bitten Sie, mindestens 5 Arbeitsproben einzureichen. Diese können ausschließlich digital und bis zu einer Dateigröße von maximal 5 MB eingereicht werden.

Bewerbungen sind ausschließlich per E-Mail möglich. Bitte senden Sie Ihre Bewerbungsunterlagen innerhalb der Bewerbungsfrist an folgende Adresse:

Frau DONG Qinwen
Programmabteilung
Abteilung Kultur und Bildung des Generalkonsulats der Bundesrepublik Deutschland in Shanghai
programm@shanghai.goethe.org

Auswahlverfahren

Die Auswahl erfolgt durch eine unabhängige Jury. Die Entscheidung der Jury ist endgültig und nicht anfechtbar.
 
 

Kontakt

Dong Qinwen
Programmabteilung
Abteilung Kultur und Bildung des Generalkonsulats der Bundesrepublik Deutschland in Shanghai
programm@shanghai.goethe.org